薄膜電池劃線激光設備
Thin Film P1/P2/P3

激光刻膜機

設備性能
      本機采用半導體泵浦激光器，直線電機驅動；光路可兩路或四路激光同步輸出。

應用領域
      薄膜太陽能電池非晶、微晶、碲化鎘的刻膜或劃線。
 
主要技術參數(shù)
激光波長         1064nm或532nm
刻膜線寬         40μm -80μm
刻膜速度         1000mm/s-1500mm/s
刻膜精度         ±10μm
工作臺幅面       1200×600mm 或1100×1400mm