今日,1366宣布直接硅片制造技術(shù)性能再創(chuàng)新高,其與韓華Q CELLS合作實(shí)現(xiàn)了19.9%的電池轉(zhuǎn)換效率。該結(jié)果得到了德國(guó)弗勞恩霍夫太陽(yáng)能系統(tǒng)研究所光伏校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室(Fraunhofer ISE CalLab)的獨(dú)立確認(rèn)。這表明1366科技的直接法硅片與韓華Q CELLS的Q.ANTUM背鈍化技術(shù)取得了快速的效率提升。
“我們效率提升的速率幾乎是行業(yè)平均的兩倍。去年底,在同條件的對(duì)比測(cè)試中,直接硅片的效率超過(guò)了高效多晶參考組。這一最新效率充分證明了1366科技的技術(shù)繼續(xù)快速提升效率的可能性,因?yàn)橹苯庸杵に嚧蚱屏髓T錠切片技術(shù)的局限。”1366科技首席執(zhí)行官弗蘭克·范·米爾洛(Frank van Mierlo)說(shuō)。
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1366科技Direct WaferTM
據(jù)悉,相比于高效多晶產(chǎn)品,1366科技的技術(shù)路線圖清晰地展示了直接硅片產(chǎn)品不僅可以使成本更低,而且能讓其電池轉(zhuǎn)化效率明顯提高。更高的效率來(lái)自于其特有的制造工藝。
• 高純的生長(zhǎng)環(huán)境:直接硅片工藝采用的熱場(chǎng)材料潔凈度遠(yuǎn)高于定向凝固鑄錠中使用的坩堝和涂層。硅錠在其熔點(diǎn)附近超過(guò)1天的時(shí)間,會(huì)使得坩堝和涂層中的雜質(zhì)向硅錠擴(kuò)散。1366科技的工藝避免了擴(kuò)散污染的產(chǎn)生。
• 更好的微觀結(jié)構(gòu):多晶生長(zhǎng)過(guò)程中產(chǎn)生的位錯(cuò)極大地影響了硅片品質(zhì)。而直接生長(zhǎng)工藝在同等條件下每次生長(zhǎng)一片硅片,可避免位錯(cuò)的產(chǎn)生,讓硅片更加均勻和高效。
• 摻雜濃度漸變:改變摻雜體在硅片正反兩面的濃度,在硅片內(nèi)形成摻雜濃度的漸變,可以使電子的收集更加有效,促進(jìn)效率提升。無(wú)需增加成本而操控?fù)诫s濃度是普通切片工藝(無(wú)論多晶還是單晶)均無(wú)法實(shí)現(xiàn)的。
“我們效率提升的速率幾乎是行業(yè)平均的兩倍。去年底,在同條件的對(duì)比測(cè)試中,直接硅片的效率超過(guò)了高效多晶參考組。這一最新效率充分證明了1366科技的技術(shù)繼續(xù)快速提升效率的可能性,因?yàn)橹苯庸杵に嚧蚱屏髓T錠切片技術(shù)的局限。”1366科技首席執(zhí)行官弗蘭克·范·米爾洛(Frank van Mierlo)說(shuō)。
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1366科技Direct WaferTM
據(jù)悉,相比于高效多晶產(chǎn)品,1366科技的技術(shù)路線圖清晰地展示了直接硅片產(chǎn)品不僅可以使成本更低,而且能讓其電池轉(zhuǎn)化效率明顯提高。更高的效率來(lái)自于其特有的制造工藝。
• 高純的生長(zhǎng)環(huán)境:直接硅片工藝采用的熱場(chǎng)材料潔凈度遠(yuǎn)高于定向凝固鑄錠中使用的坩堝和涂層。硅錠在其熔點(diǎn)附近超過(guò)1天的時(shí)間,會(huì)使得坩堝和涂層中的雜質(zhì)向硅錠擴(kuò)散。1366科技的工藝避免了擴(kuò)散污染的產(chǎn)生。
• 更好的微觀結(jié)構(gòu):多晶生長(zhǎng)過(guò)程中產(chǎn)生的位錯(cuò)極大地影響了硅片品質(zhì)。而直接生長(zhǎng)工藝在同等條件下每次生長(zhǎng)一片硅片,可避免位錯(cuò)的產(chǎn)生,讓硅片更加均勻和高效。
• 摻雜濃度漸變:改變摻雜體在硅片正反兩面的濃度,在硅片內(nèi)形成摻雜濃度的漸變,可以使電子的收集更加有效,促進(jìn)效率提升。無(wú)需增加成本而操控?fù)诫s濃度是普通切片工藝(無(wú)論多晶還是單晶)均無(wú)法實(shí)現(xiàn)的。