法國(guó)Alchimer S.A.面向三維元件中使用的TSV（硅通孔）成功開(kāi)發(fā)出了低成本成膜技術(shù)?？蓪⒒赥SV的布線形成用金屬薄膜的形成成本降至現(xiàn)有工藝的65％。

　　之所以能夠?qū)崿F(xiàn)上述結(jié)果，是因?yàn)椴捎昧嗽摴净谔厥庥袡C(jī)材料的濕法成膜技術(shù)“Electrografting”。該技術(shù)可直接利用現(xiàn)有的鍍膜裝置。無(wú)需CVD等干法工藝中采用的高價(jià)位成膜裝置，裝置的折舊成本大幅降低。

　　普通的TVS一般在通孔的內(nèi)壁形成絕緣膜、阻擋膜、籽晶膜和金屬膜，而此次的方法可應(yīng)用于上述各種成膜工序。另外，即使是采用1:18的高縱寬比的通孔和Bosch工藝制造的帶有凹凸的內(nèi)壁，也可均勻成膜。