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中科院微電子所新型Al2O3表面鈍化研究獲得突出進(jìn)展

   2011-11-25 19570
核心提示:  日前,中科院微電子所在新型Al2O3表面鈍化研究上取得突出進(jìn)展。  良好的表面鈍化對(duì)于提升晶體硅太陽(yáng)能電池的開(kāi)路電壓十分重

  日前,中科院微電子所在新型Al2O3表面鈍化研究上取得突出進(jìn)展。

  良好的表面鈍化對(duì)于提升晶體硅太陽(yáng)能電池的開(kāi)路電壓十分重要,傳統(tǒng)晶體硅電池常用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法沉積SiNx:H薄膜,除了能夠降低反射率以外,還對(duì)Si電池的表面進(jìn)行了較好的鈍化。然而傳統(tǒng)SiNx:H薄膜對(duì)晶體硅的表面鈍化效果有限,因此對(duì)表面鈍化技術(shù)的探索和研究,一直是國(guó)際上的重點(diǎn)研究領(lǐng)域。最近幾年,國(guó)際上利用Al2O3對(duì)晶體硅進(jìn)行表面鈍化,再結(jié)合新的工藝,有效地提升了p型和n型晶體硅電池的效率,Al2O3鈍化技術(shù)有望在太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)中得到大規(guī)模的應(yīng)用。

  中科院微電子所微波器件與集成電路研究室(四室)賈銳研究員率領(lǐng)的研究團(tuán)隊(duì),在國(guó)內(nèi)率先系統(tǒng)地開(kāi)展了Al2O3鈍化的研究工作。該研究團(tuán)隊(duì)利用原子層沉積(Atomic Layer Deposition, ALD)技術(shù),在2cm×2cm的電池上結(jié)合其它技術(shù)來(lái)沉積以Al2O3為主的復(fù)合鈍化結(jié)構(gòu)。使用ALD設(shè)備,在低溫下循環(huán)通入鋁的有機(jī)源,再通過(guò)氧化的過(guò)程得到Al2O3。通過(guò)多個(gè)周期的循環(huán)沉積,可以獲得納米尺度的Al2O3薄膜,并在一定的氣氛和溫度下進(jìn)行激活處理,形成良好的復(fù)合鈍化薄膜結(jié)構(gòu)。系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)表明,不使用Al2O3和使用Al2O3的電池差別十分明顯,后者的開(kāi)路電壓(Voc)和光電轉(zhuǎn)換效率(η)相比前者分別提高了9.6%和44.2%,表面鈍化使得短波長(zhǎng)和長(zhǎng)波長(zhǎng)光的響應(yīng)明顯提高。為了使Al2O3鈍化效果充分地體現(xiàn)出來(lái),該鈍化技術(shù)必須輔之以新型電池工藝技術(shù),因此配套的電池工藝技術(shù)開(kāi)發(fā)是十分重要的。該研究團(tuán)隊(duì)還對(duì)基于Al2O3的場(chǎng)效應(yīng)鈍化和化學(xué)鈍化進(jìn)行了理論和實(shí)驗(yàn)上的研究,研究表明Al2O3的化學(xué)鈍化起到了更好的鈍化作用,因此鈍化對(duì)p型和n型硅都是有效的。

  該項(xiàng)研究成果開(kāi)創(chuàng)了中科院微電子研究所在太陽(yáng)能研究領(lǐng)域的新局面,有力的推動(dòng)了國(guó)內(nèi)Al2O3鈍化技術(shù)的發(fā)展。

  圖1: Al2O3表面復(fù)合鈍化結(jié)構(gòu)SEM圖片

  圖2: 2cm×2cm原型電池的量子效率測(cè)試圖

 
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