工研院跨領(lǐng)域研發(fā)「低溫大氣壓電漿透明導電鍍膜制程與設(shè)備」，這項研究獲選工研院今年的「杰出研究金牌獎」，昨天在工研院37周年院慶中獲得表揚。 記者李青霖／攝影

工研院成功突破昂貴的真空技術(shù)，研發(fā)出新一代透明導電鍍膜制程和設(shè)備，不但節(jié)省三分之二的成本，更用「鋅」取代稀有的「銦」材料，是項兼顧環(huán)保的綠色制程。這項技術(shù)，可以應用在觸控面板及太陽能（PV）的透明電極制造上。

銦錫氧化（ITO）透明導電膜占電阻式觸控面板成本高達九成，日商日東電工及尾池擁有全球七成市占率。若工研院這項「低溫大氣壓電漿透明導電鍍膜制程與設(shè)備技術(shù)」能順利進入量產(chǎn)，不僅會協(xié)助臺灣ITO透明導電膜廠擴大市占，也讓觸控面板和PV制造成本大幅下降。

工研院昨（5）日舉行37周年院慶典禮，會中頒發(fā)奪得杰出研究金牌獎的「低溫大氣壓電漿透明導電鍍膜制程與設(shè)備技術(shù)」，是花了六年時間研發(fā)出的成果。

代表領(lǐng)獎的機械所研究員張加強說，會舍棄傳統(tǒng)技術(shù)，改采非真空大氣壓電漿技術(shù)，是因為執(zhí)著創(chuàng)新的精神，而成就獲獎的榮耀。