4月7日,湖北省科技廳在武漢主持召開(kāi)了由武漢三工光電設(shè)備制造有限公司完成的“SEF－G5太陽(yáng)能光伏激光刻膜機(jī)”項(xiàng)目鑒定會(huì)。華中科技大學(xué)光電學(xué)院副院長(zhǎng)、武漢中國(guó)光谷激光行業(yè)協(xié)會(huì)會(huì)長(zhǎng)朱曉教授擔(dān)任鑒定委員會(huì)主任委員，武漢大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院汪國(guó)平教授任鑒定委員會(huì)副主任委員。朱曉主持了項(xiàng)目鑒定，與會(huì)專家聽(tīng)取了武漢三工光電設(shè)備制造有限公司總經(jīng)理何成鵬所作的工作報(bào)告和技術(shù)報(bào)告，審閱了相關(guān)技術(shù)資料，并觀看了“SEF-G5太陽(yáng)能光伏激光刻膜機(jī)”現(xiàn)場(chǎng)演示。

   專家們認(rèn)為，SEF-G5激光刻膜機(jī)重點(diǎn)解決如下關(guān)鍵技術(shù)，采用全封閉式結(jié)構(gòu)，膜面朝上運(yùn)行，與流水生產(chǎn)線匹配，自動(dòng)進(jìn)出料，并采用大面積非接觸式氣浮平臺(tái)支撐，實(shí)現(xiàn)了無(wú)摩擦支撐下的高速平穩(wěn)運(yùn)行。采用綜合除塵技術(shù)，包括定點(diǎn)除塵、隨動(dòng)除塵、旋流除塵、靜電除塵、集塵過(guò)濾技術(shù)，使除塵效果達(dá)到5μm以上顆粒除塵率99%以上。采用獨(dú)特的四光路同步輸出方式，功率輸出穩(wěn)定，保證了切割的均勻性，并采用CCD攝像和微位移制動(dòng)的自動(dòng)識(shí)別跟蹤定位系統(tǒng)，提高了系統(tǒng)的刻膜精度，并取得實(shí)用新型專利5項(xiàng)。

   SEF-G5激光刻膜機(jī)的整機(jī)加工幅面達(dá)到1.1m×1.4m，電池板刻線直線度±10μm/m，平行度±10μm/m，定位精度±10μm/m，刻線寬度30～60μm，三條線外沿總寬度≤400μm。系統(tǒng)最高運(yùn)行速度2000mm/s，電池生產(chǎn)加工效率達(dá)到1板/min。

   SEF－G5太陽(yáng)能光伏激光刻膜機(jī)”達(dá)到了項(xiàng)目的既定指標(biāo)，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)高端激光刻膜機(jī)產(chǎn)品的空白，部分指標(biāo)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平，具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，已在國(guó)內(nèi)推廣使用，替代進(jìn)口，獲得了良好的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益，具有很好的市場(chǎng)應(yīng)用前景。