產(chǎn)品特點：
1）適合于硅材料的氧、碳含量的測定；
2）可實現(xiàn)硅料中氧碳含量自動、快速、準確的測量；
3）具備完整的譜圖采集、光譜轉(zhuǎn)換、光譜處理、光譜分析及輸出功能，使得操作更簡單、方便、靈活。
4）全密封防潮、防塵干涉儀的設(shè)計使儀器對環(huán)境的適應(yīng)能力更強。
5）外置式紅外光源部件的設(shè)計使得儀器具有更高的熱學(xué)穩(wěn)定性，無須動態(tài)調(diào)整就具有穩(wěn)定的干涉度。
6）高強度紅外光源采用球形反射裝置，可獲得均勻、穩(wěn)定的紅外輻射。
7）程控增益放大電路、高精度A/D轉(zhuǎn)換電路的設(shè)計及嵌入式微機的應(yīng)用，提高了儀器的精度及可靠性；
8）光譜儀與計算機間通過USB方式進行控制和數(shù)據(jù)通訊，完全實現(xiàn)即插即用。
9）通用微機系統(tǒng)，全中文應(yīng)用軟件界面友好、內(nèi)容豐富。
10）專用樣品固定架；
11）高穩(wěn)定性和抗震性；
12）保質(zhì)期：12個月。
技術(shù)參數(shù)：
1）檢測下限：1.0X1016cm-3(常溫)；
2）檢測硅料硅片厚度范圍為：0.1~3.5mm；
3)波數(shù)范圍：7800cm-1~400cm-1
4）分辨率：優(yōu)于0.5 cm-1
5)波數(shù)精度：±0.01 cm-1
(1) CZ-Si(直拉硅)中氧含量精密度為±10%。
(2) FZ-Si（區(qū)熔硅）中氧含量精密度為±20%，檢測下限為1×1016 cm-3 。符合“硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法”國家標準(GB/T 1557-89)的要求。
6)掃描速度：0.2~2.5 cm/s，微機控制，選擇不同的掃描速度，檔次連續(xù)可調(diào)。
7) 信噪比：優(yōu)于15，000：1（RMS值，在2100 cm-1 處，4 cm-1分辨率，DTGS探測器，1分鐘數(shù)據(jù)采集。）
8) 分數(shù)器：KBr基片鍍鍺
9) 探測器：標準配置DTGS，任選MCT
10)光源：高強度空氣冷卻紅外光源
數(shù)據(jù)系統(tǒng)：
1) 通用微機，連接噴墨或激光打印機，可輸出高質(zhì)量的光譜圖。
2) 軟件：全新中文MainFTOS軟件：Windows9X/2000/XP操作系統(tǒng)下的通用操作軟件系統(tǒng)。包括譜庫檢索軟件、定量分析軟件、譜圖輸出軟件及專用紅外譜庫。
儀器尺寸：
1) 光學(xué)臺： 63*52*24cm
電源：
1)交流：220V/50HZ
2)功率：1000VA
主要客戶:
錦州陽光能源、江蘇天源、峨眉739、河北晶龍集團、無錫尚德、天津環(huán)歐等
